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申请/专利权人:魅杰光电科技(上海)有限公司

申请日:2023-11-30

公开(公告)日:2024-03-08

公开(公告)号:cn117672914a

主分类号:h01l21/67

分类号:h01l21/67;g01n21/84;g01n21/01;g01n21/95;g01b11/02;g01b11/06;g01b11/00;h01l21/66

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.03.08#公开

摘要:一种晶圆检测的聚焦系统、晶圆检测系统及聚焦方法,所述晶圆检测的聚焦系统包括:移动装置,以及设置于所述移动装置上的多个光路组件,所述多个光路组件对晶圆上待测对象的放大倍数均不同;其中,所述移动装置,用于多次调整所述多个光路组件中的光路组件与晶圆上待测对象的距离,以获取晶圆上待测对象的成像信息;其中,一次调整所述多个光路组件中的至少一个光路组件与晶圆上待测对象的距离,光路组件与晶圆上待测对象的不同距离对应晶圆上待测对象不同精度的成像信息。采用本发明技术方案,实现了一机多功能,同时能检测不同尺寸的待测对象,扩大检测范围,也能提高检测精度,具有很高的性价比。

主权项:1.一种晶圆检测的聚集系统,其特征在于,包括:移动装置,以及设置于所述移动装置上的多个光路组件,所述多个光路组件对晶圆上待测对象的放大倍数均不同;其中,所述移动装置,用于多次调整所述多个光路组件中的光路组件与晶圆上待测对象的距离,以获取晶圆上待测对象的成像信息;其中,一次调整所述多个光路组件中的至少一个光路组件与晶圆上待测对象的距离,光路组件与晶圆上待测对象的不同距离对应晶圆上待测对象不同精度的成像信息。

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